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ECSE 485 IC Fabrication Laboratory (2 unit茅s)

important

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Offered by: G茅nie 茅lectr. et informatique (G茅nie et l'architecture)

Vue d'ensemble

G茅nie 茅lectrique : Essential processes for silicon semiconductor device fabrication: etching, diffusion, photolithography. Fabrication of large area PN junctions, selective area PN junctions and MOSFETs. Design and fabrication of simple MOS circuits. Electrical characterization of devices and circuits.

Terms: This course is not scheduled for the 2018-2019 academic year.

Instructors: There are no professors associated with this course for the 2018-2019 academic year.

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